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傳Intel Xe獨顯已亮機測試:14nm工藝 可戰GTX 1050

2019-10-28 10:26:57 來源:快科技
在周五的財報會議上,Intel首次了透露了旗下高性能Xe獨顯的進度, CEO司睿博宣布DG1 GPU達成了一個重要里程碑。


與此同時,從AMD跳槽到Intel的圖形及視覺技術市場總監Chris Hook也發了一條推——It's alive,直譯起來意思是“它還活著”,但是這條推文實際上應該是暗示Intel的Xe GPU已經點亮測試了。


此前Intel高級副總Raja Koduri暗示明年6月份的臺北電腦展上會發布Xe獨顯,但后面又有消息說還是2020年下半年發布,只不過明年何時發布,現在這個時間點都應該是流片驗證了,因為大型芯片流片驗證到發布通常需要一年左右的時間,Chris Hook的alive暗示DG1獨顯已經進入測試階段了。


根據之前的爆料,Intel的DG1獨顯將基于Xe架構,不過這是一款LP低功耗方向的顯卡,搭配GDDR6顯存,定位在GTX 1050級別的,后者是NVIDIA Pascal架構的中低端顯卡,浮點性能1.9TFLOPS左右。


考慮到Intel目前的Gen11核顯的浮點性能已經達到了1TFLOPS以上,Xe架構會更先進一代,之前說是核顯級的Gen12(也是Xe架構)性能再次翻倍,所以DG1達到2TFLOPS級別的性能應該沒壓力。





不過DG1獨顯的工藝可能有點特殊,爆料顯示是14nm工藝,而Intel之前的暗示都是說Xe獨顯使用10nm工藝的。


話說回來,DG1如果是定位在入門級獨顯市場,那么使用成熟、低成本而且高性能的14nm工藝實際上更合適,所以不排除Intel在Xe獨顯上使用14nm工藝作為中低端GPU的生產工藝。


當然,2021年的時候Intel還會生產7nm工藝的Xe顯卡,不過這是給數據中心準備的高性能GPU,這樣一來Intel的Xe顯卡就集齊14mm、10nm、7nm三種工藝了。




 

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